minat_dünnschicht
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Kartei Details
| Karten | 37 |
|---|---|
| Sprache | Deutsch |
| Kategorie | Technik |
| Stufe | Universität |
| Erstellt / Aktualisiert | 13.11.2023 / 13.11.2023 |
| Lizenzierung | Keine Angabe |
| Weblink |
https://card2brain.ch/box/20231113_minatduennschicht
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Welches der genannten Verfahren ist kein PVD Verfahren?
Geben Sie die Druckbereiche in Zehnerpotenzen von millibar an für folgende Vakuumtypen:
- Vorvakuum:
- Hochvakuum:
- Ultrahochvakuum:
- Vorvakuum: 1000 bis 10-1 mBar
- Hochvakuum: 10-2 bis 10-7 mBar
- Ultrahochvakuum: unter 10-7 mBar
Mit welchen Instrumenten kann Vakuum quantitativ gemessen werden? (min. 2 Nennungen)
- Pirani- oder Membranzellen
- Ionisationszellen (Penning)
- Heisskathoden-Ionisationszellen
Wie nennt man die morphologisch gleichförmige Abscheidung von Substrat-identischem Material auf einem Substrat?
Sie ätzen einen Si-Wafer in KOH-Lösung. Bei welcher Kristallorientierung hat die geätzte Struktur senkrechte Wände zur Waferoberfläche?
Bei welchen Produkten wird kristallrichtungs-selektives Ätzen heute angewandt?
Druckkopf-Tintenstrahldrucker
Was ist der wichtigste Vorteil von „Reaktiv-Ionenätzen" gegenüber kristallrichtungsselektivem Nassätzen?
Es ist immer anisotrop
Kann man in einer Sputteranlage auch „Reaktiv-Ionenätzen"?
