Verfahren und Analysemethoden der MST
Vorlesung 8
Vorlesung 8
Kartei Details
| Karten | 30 |
|---|---|
| Sprache | Deutsch |
| Kategorie | Technik |
| Stufe | Universität |
| Erstellt / Aktualisiert | 11.04.2013 / 11.04.2013 |
| Lizenzierung | Kein Urheberrechtsschutz (CC0) |
| Weblink |
https://card2brain.ch/box/verfahren_und_analysemethoden_der_mst6
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Welche Eigenschaften muss ein guter Resist haben?
- Strahlungsempfindliches Polymer
- selektiv strukturierbar
- resistent gegen weitere folgende Strukturierungsprozesse
Erklären Sie den Unterschied zwischen Positiv- und Negativresist
Positiv-Resist: durch Strahlung aufgelöst, unbelichtete Bereiche bleiben erhalten
Negativ-Resist: durch Strahlung ausgehärtet, belichtete Bereiche bleiben erhalten
Wodurch ist das Aspektverhältnis gegeben?
Tiefe/Breite
Was ist die spezielle Eigenschaft des SU-8 Resists?
Aspektverhältniss bis zu 30
Erklären Sie die vier Schritte des Image-Reversal Prozesses.
- Lithographie
- Temperatur
- Lithographie
- Entwickeln
Resist wird zweimal belichtet und zwischen den belichtungen chemisch modifiziert --> verhält sich wie hochauflösender negativresist
Was ist der Hauptvorteil, den man durch einen Image-Reversal Prozess erreicht?
Umkehrung des Kantenprofils
Was versteht man unter einem Lift-off Prozess?
Strukturierung von Metallen ohne Ätzen
Strukturierung mittels Photo-Resist, ganzflächiges auftragen von Metall und herauslösen des Photoresist
Welcher Resist erzielt die höhere Strukturauflösung – Positiv- oder Neagtivresist?
