Mirko- und Nanotechnik
Lithographie
Lithographie
Kartei Details
| Karten | 29 |
|---|---|
| Sprache | Deutsch |
| Kategorie | Technik |
| Stufe | Universität |
| Erstellt / Aktualisiert | 06.11.2019 / 06.02.2020 |
| Lizenzierung | Keine Angabe |
| Weblink |
https://card2brain.ch/box/20191106_mirko_und_nanotechnik_w962
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Bei der Photolithographie galt lange Zeit, dass die maximale Auflösung (kleinste zu belichtende Struktur) ungefähr der verwendeten Lichtwellenlänge entspricht. Bei welcher Variante wurde dies deutlich übertroffen?
Was ist der Proximity-Abstand und nach welcher Formel geht dieser in die Auflösung
ein (kleinste zu belichtende Struktur) ?
Proximity ist der Abstand zwischen Maske und Resist ca. 20-30 µm. bmin=Wurzel(λ*dprox)
Wie gross ist der Proximity-Abstand in etwa?
Warum sind die Absorptionsstrukturen auf einer Maske zum Resist hin angeordnet?
zum nachschauen
wegen dn Beugungseffekten, die auftreten können. -> ungenau
Welche Auflösung (der Leiterbahnen) erreicht man 2015 in der Produktion?
Welche Wellenlänge verwendet man?
Sie möchten Leiterbahnen auf einem Chip herstellen. Zeichnen Sie für einen Lift-off Prozess und einen Ätzprozess eine typische Prozessfolge mit (mindestens) drei Schritten auf, also Belichten mittels Proximity-Lithographie, Entwickeln, Strukturübertragung. Die Skizze soll die Details und Dimnesionen in der Seitenperspektive widergeben.
siehe Bild
Resist Spincoating:
Resists bestehen meist aus einem Polymer (Feststoff), das in Lösungsmittel aufgelöst ist. Was
geschieht mit diesem (grösstenteils) während der Schleuderbeschichttmg (Spincoating)?
